スパッタリング装置（初代） ELIONIX製：イオンシャワー装置[ISM-S] 　微細加工研究，スパッタリングによる薄膜形成，物性研究，分析試料作成など幅広い分野に使用できる一般的な薄膜創製装置．チャンバー内に槌谷研究室で設計した治具を設置しており，回転方向を制御することで三次元的にスパッタリングを行うことが可能となっている． 　この装置を用いて，槌谷研究室では，マイクロ針の創製を行っている． ECRスパッタリング装置 （オリジナルモデル） ELIONIX製：小型ECRイオン銃[EIG-210ER] 　槌谷研究室が所有する二つ目の薄膜創製装置であり，ECRスパッタリング法を用いて薄膜創製を行っている．三面ターゲットフォルダを有し，大気開放をせずに，多層薄膜創製が可能である． 　基板ホルダには約１０００℃まで加熱可能な熱処理装置が設置されており，スパッタリングしながらの熱処理が可能である． 　また，ターボ分子ポンプを搭載し，15分で約10-4(Pa)オーダの真空状態が実現可能となっている． 　この装置を用いて，槌谷研究室では，主にPZTや形状記憶合金の薄膜化を行っている． XRD（X線回折装置） 島津製作所製：XRD-6100 　粉末試料，薄膜試料，固まりにくい試料，溶解しやすい試料の測定が可能．槌谷研究室ではXRDを用いて，圧電性を示すPZT薄膜や，形状記憶を有するTiNi合金薄膜の結晶構造解析を行っている． ナノインデンター ELIONIX製：超極小押し込み硬さ試験機[ENT-1100a] 　圧子を超極小荷重で試料に押し込み，その進入深さを高分解能の変位計で読み取ることにより，材料表面の力学的特性が評価できる．また，nmとμNの精度で圧子を制御し，1μm以下の圧痕で材料特性を評価するナノインデンテーション法を用いて，薄膜のヤング率などを調べることが可能である． 　槌谷研究室では，マイクロ無痛針や薄膜の創製後，そのヤング率を調査などに用いている． TOPへ戻る